等離子電漿拋光設(shè)備ECMA150KVA

等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子。等離子就是在高溫高壓下，拋光劑水溶，在高溫高壓下，電子會(huì)脫離原子核而跑出來，原子核就形成了一個(gè)帶正電的離子，當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時(shí)候可以成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r，頃刻間會(huì)使物體達(dá)到表面光亮的效果。

本產(chǎn)品采用的拋光技術(shù)是一種完全不同傳統(tǒng)方法的新型拋光技術(shù)，稱之為液態(tài)電漿拋光技術(shù)。此拋光技術(shù)是根據(jù)電化學(xué)原理與化學(xué)反應(yīng)原理而研發(fā)設(shè)計(jì)的。是利用電解質(zhì)成分、電解質(zhì)水溶液濃度與溫度、電壓及電流密度對(duì)工件表面粗糙度、光澤度、反射率等表面特性的關(guān)聯(lián)，而研發(fā)出最適合操作的新型拋光技術(shù)。

電漿拋光(EDTM)機(jī)的主要特點(diǎn):

(1)根據(jù)工件尺寸的不同,可以使工件在幾十秒至2分鐘內(nèi)達(dá)到近鏡面的拋光效果,使后續(xù)處理十分方便;

(2)在拋光過程中有效去除沖壓件或其它制造件的邊角毛刺;

(3)拋光過程中使工件表面產(chǎn)生一層鈍化膜,使其保持耐久光亮,增強(qiáng)拋光面的抗腐蝕性能;

(4)拋光均勻程度優(yōu)越,整個(gè)工件表面甚至于所有死角部位都可達(dá)到一致的近鏡面效果;

(5)拋光過程由電參數(shù)控制,全過程采用進(jìn)口PLC自動(dòng)化控制,操作簡(jiǎn)單,維護(hù)方便;

(6)生產(chǎn)效率高,生產(chǎn)成本低;

(7)拋光過程不產(chǎn)生化學(xué)污染【低濃度藥劑(95%~97%水+3%~5%的藥劑,PH值約6.5~7)】.

(8)清潔能力:EDTM系統(tǒng)不但定位為快速拋光機(jī)構(gòu)之外,同時(shí)亦適合作為各種形狀合金表面的去污、除脂、去氧化層、清潔殘留雜質(zhì)及化學(xué)藥物,提供工件表面鍍膜前更優(yōu)質(zhì)的前置處理.