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等離子拋光設(shè)備還不能完全取代機(jī)械拋光。等離子拋光設(shè)備只是對(duì)金屬表面上起微觀整平作用。宏觀的整平要靠機(jī)械拋光。等離子拋光設(shè)備對(duì)材料化學(xué)成分的不均勻性和顯微偏析特別敏感,使金屬基本體和非金屬雜物之間常備劇烈侵蝕,有時(shí),有不良的治金狀態(tài),金屬顆粒尺寸結(jié)構(gòu)的不均勻性、軋制痕跡、鹽類或氧化物的污染、酸洗過(guò)度以及淬火過(guò)度等均會(huì)對(duì)等離子拋光設(shè)備生產(chǎn)不良影響。這些缺陷常常要靠先期的機(jī)械拋光來(lái)彌補(bǔ)。
等離子拋光設(shè)備與手工拋光、機(jī)械拋光相比,能發(fā)揮下列優(yōu)點(diǎn):
(1)產(chǎn)品內(nèi)外色澤一致,清潔光亮,光澤持久,外觀輪清晰;
(2)螺紋中的毛刺在拋光中過(guò)程中放電打掉,螺紋間配合松滑,防止螺紋間咬和時(shí)的咬死現(xiàn)象;
(3)拋光面抗腐蝕性能增強(qiáng);
(4)與機(jī)械拋光相比,生產(chǎn)效率高,生產(chǎn)成本低。