等離子拋光機(jī)由底座、拋盤(pán)、拋光織物、拋光罩及蓋等基本元件組成。電動(dòng)機(jī)固定在底座上，固定拋光盤(pán)用的錐套通過(guò)螺釘與電動(dòng)機(jī)軸相連。拋光織物通過(guò)套圈緊固在拋光盤(pán)上，電動(dòng)機(jī)通過(guò)底座上的開(kāi)關(guān)接通電源起動(dòng)后，便可用手對(duì)試樣施加壓力在轉(zhuǎn)動(dòng)的拋光盤(pán)上進(jìn)行拋光。拋光過(guò)程中加入的拋光液可通過(guò)固定在底座上的塑料盤(pán)中的排水管流入置于拋光機(jī)旁的方盤(pán)內(nèi)。拋光罩及蓋可防止灰土及其他雜物在機(jī)器不使用時(shí)落在拋光織物上而影響使用效果。

等離子拋光機(jī)操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到更大的拋光速率，以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響最終觀察到的組織，即不會(huì)造成假組織。前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來(lái)去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深；后者要求使用最細(xì)的材料，等離子拋光機(jī)使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。解決這個(gè)矛盾的更好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有更大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能??；其次是精拋(或稱終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到最小。