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等離子拋光設(shè)備還不能完全取代機(jī)械拋光。等離子拋光設(shè)備只是對金屬表面上起微觀整平作用。宏觀的整平要靠機(jī)械拋光。等離子拋光設(shè)備對材料化學(xué)成分的不均勻性和顯微偏析特別敏感，使金屬基本體和非金屬雜物之間常備劇烈侵蝕，有時，有不良的治金狀態(tài)，金屬顆粒尺寸結(jié)構(gòu)的不均勻性、軋制痕跡、鹽類或氧化物的污染、酸洗過度以及淬火過度等均會對等離子拋光設(shè)備生產(chǎn)不良影響。這些缺陷常常要靠先期的機(jī)械拋光來彌補(bǔ)。
等離子拋光設(shè)備與手工拋光、機(jī)械拋光相比，能發(fā)揮下列優(yōu)點(diǎn)：
（1）產(chǎn)品內(nèi)外色澤一致，清潔光亮，光澤持久，外觀輪清晰；
（2）螺紋中的毛刺在拋光中過程中放電打掉，螺紋間配合松滑，防止螺紋間咬和時的咬死現(xiàn)象；
（3）拋光面抗腐蝕性能增強(qiáng)；
（4）與機(jī)械拋光相比，生產(chǎn)效率高，生產(chǎn)成本低。
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