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等離子拋光機(jī)在作業(yè)過程中、是要靠電來將拋光鹽溶液離化發(fā)生等離子、等離子下電場下轟擊產(chǎn)品外表、構(gòu)成端放電、一起伴有化學(xué)微腐蝕,物理化學(xué)雙作用發(fā)生的拋光效果。在微觀下是要靠電將原來穩(wěn)定的資料原子核周圍的電子通過電場脫離原子核的束縛、構(gòu)成活躍的離子。此等一切的能量都需要電來供給、并且等離子的發(fā)生還需要很高的電場才可以發(fā)生。
等離子拋光機(jī)操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到更大的拋光速率,以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響最終觀察到的組織,即不會(huì)造成假組織。前者要求使用較粗的磨料,以保證有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層,但拋光損傷層也較深;后者要求使用最細(xì)的材料,等離子拋光機(jī)使拋光損傷層較淺,但拋光速率低。
解決這個(gè)矛盾的更好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。粗拋目的是去除磨光損傷層,這一階段應(yīng)具有更大的拋光速率,粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,不過也應(yīng)當(dāng)盡可能??;其次是精拋(或稱終拋),其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,使拋光損傷減到最小。